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比力共焦和广角荧光金相试样抛光机-----新闻题目

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在传统的广角光学落射荧光金相试样抛光机，标本收回二次荧光常常产生经过引发卷和掩饰笼罩的特点在于客观焦立体辨别率。

较厚的标本（大于2微米），这通常体现出如许的荧光高度的***细的细节丧失的题目更为庞大。

共聚焦金相试样抛光机提供只要边沿改进轴向（Z;沿光轴）和横向（x和y在试样的立体）光学辨别率，并且是可以扫除在从焦立体从发生的图像地区的二次荧光。

即便辨别率有所进步共聚焦金相试样抛光机比传统的广角技能，它仍旧是比透射电镜少。

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